这些年我们一个热点词汇就是卡脖子，尤其半导体领域。

这里面非常典型的就是光刻机，ASML的EUV光刻机。

很长一段时间内，荷兰这家公司跟随美国的步伐对我们禁运，直接导致我们的先进制程，尤其7nm以下难以与海外匹敌。

我们的光刻胶国产化公司需要EUV光刻机开发针对EUV的光刻胶，芯片制造厂更需要EUV光刻机生产7nm，5nm，3nm及以下的先进芯片。

而这一次，韩国SK 海力士计划在未来两年内新购置约 20 台 ASML 的 EUV 光刻系统。

也就是他现在的ASML的EUV光刻机翻一番。

按照之前的报价，每台ASML的EUV光刻机价格基本在3000亿至5000亿韩元之间，所以此次SK海力士投资规模至少要在6万亿韩元以上。

没有办法，暂时全球仅荷兰ASML一家能够生产EUV光刻机。

未来采购的这些ASML的EUV光刻机将主要安装在韩国SK 海力士在清州的M15X工厂和利川的M16工厂。

这些光刻机主要为了实现SK 海力士在先进存储制程上的产品实现和研发能力，扩大产能。

随着各行业对算力的要求，及AI的发展。使得下游对企业级高性能存储尤其是 HBM 需求的快速提升，SK 海力士需要更多的 EUV 设备来扩大先进 DRAM 内存的生产规模。

虽然ASML的EUV光刻机很贵，但是一下能采购20台，是不是也很让人羡慕。

SK 海力士还会加强与ASML的沟通，以便加快光刻机交付。

当然，我们的企业和工程师也没闲着，不卖给我们，我们就自己造。

现在，我们的28nm光刻机已经取得实质性突破，更先进的在开发中。

但是我们要清醒认识到，毕竟这是一套复杂的系统，不是简单的一个节点，所以短期赶上ASML是不现实的。

而且，EUV光刻机也分先进和普通，ASML已经全力发展其先进EUV光刻机，指向2nm以下，甚至1nm。

而我们的28nm要追上ASML的脚步，不是一两年可以实现的。

但是，关键在用。

我们虽然受限于光刻机，但是28-7nm的芯片暂时还是能制造。这就满足了大部分应用场景，让我们在军工，电器等很多行业不被制约。

另外，任老爷子一句话也很明白：物理不够数学来补。

在此当下，勤劳智慧的产业工程师只能利用现有基础，不抱怨。各供应链上下游协同突破，互相助力，在困难时期想办法往前推，解决问题，提升产品。

比如，解决物理问题的方法不仅物理，还有数学，甚至商务，政治，材料，化学…

我想，这绝对只是一个过程。

区别在于长短。

区别在于我们的实力和努力。